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激光直写设备
激光直写设备包含激光直写、激光直写检测系统、掩模板修复系统。激光直写设备主要用于mask和wafer图形刻蚀，是DOE元件制作的重要设备之一。激光直写线宽200nm-2um。
激光直写系统： 主要用于mask和wafer图形刻蚀 线宽：200nm-2um 多光束：1-32路 |
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激光直写检测系统： 主要用于检测mask和wafer图形刻蚀结果 分辨率：65nm-50um |
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掩模板修复系统 主要用于对mask和wafer上刻蚀的错误和缺陷进行修复 分辨率：65nm-50um |
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常见问题
你们的产品多少吨起订？需求量少怎么办？
您好，每种规格8吨起订；需求量少，可拨打客服热线：010-888888，让客服协助您进行现货查询。
你们是工厂还是经销商？
您好，我们是大型生产厂家，上市企业。用户遍布全球，三星、海尔、日立等都是我们的长期合作伙伴，可放心采购。
你们的报价是固定的么？
您好，我们的报价由两部分组成，发货当天收盘均价+加工费，由于铝锭价每日都有波动，所以报价会有浮动。
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