热门搜索:干涉仪 光谱仪  红外传感器  角分辨光散射仪...

激光直写设备-掩模板修复系统

激光直写设备

激光直写设备

激光直写设备包含激光直写、激光直写检测系统、掩模板修复系统。激光直写设备主要用于mask和wafer图形刻蚀,是DOE元件制作的重要设备之一。激光直写线宽200nm-2um。

激光直写系统:

主要用于mask和wafer图形刻蚀

线宽:200nm-2um

多光束:1-32路

激光直写检测系统

主要用于检测mask和wafer图形刻蚀结果

分辨率:65nm-50um

板修复系统

主要用于对mask和wafer上刻蚀的错误和缺陷进行修复

分辨率:65nm-50um


沪ICP备10008742号-1