激光直写设备-掩模板修复系统
激光直写设备
激光直写设备
激光直写设备包含激光直写、激光直写检测系统、掩模板修复系统。激光直写设备主要用于mask和wafer图形刻蚀，是DOE元件制作的重要设备之一。激光直写线宽200nm-2um。
激光直写系统： 主要用于mask和wafer图形刻蚀 线宽：200nm-2um 多光束：1-32路 |
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激光直写检测系统： 主要用于检测mask和wafer图形刻蚀结果 分辨率：65nm-50um |
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掩模板修复系统 主要用于对mask和wafer上刻蚀的错误和缺陷进行修复 分辨率：65nm-50um |
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